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Laboratório PECVD Forno de Quartzo a Vácuo com Elemento de Aquecimento de Fio de Resistência

Pessoa de contato: Gilia Ding


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  • Item número.:

    LITH-PECVD
  • Pagamento:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Tempo de espera:

    7 days
  • Conformidade:

    CE Certified
  • garantia:

    Two years limited standard warranty
  • Detalhes do produto

Laboratório PECVD Forno de Quartzo a Vácuo com Elemento de Aquecimento de Fio de Resistência


Forno PECVD

      A introdução do equipamento:  Este equipamento ioniza um gás contendo um átomo constituinte do filme por meio de radiofrequência, etc., e forma um plasma localmente. O plasma é quimicamente ativo e reage facilmente, e um filme desejado é depositado no substrato. A fim de permitir que a reação química prossiga a uma temperatura mais baixa, a atividade do plasma é utilizada para promover a reação e, portanto, o CVD é chamado de deposição química de vapor aprimorada por plasma (PECVD).


Descrição do produto:  Este equipamento é um sistema PECVD de zona de temperatura única fixa, que inclui  forno de tubo de zona de temperatura única D 6 0x1 0 00L mm , fonte de alimentação de RF de plasma de 500 W,  sistema de suprimento de ar de fluxo de massa de 3 canais e unidade de vácuo.


Os principais componentes do sistema e características:

O equipamento é composto principalmente por um corpo de fornalha de aquecimento tubular, um sistema de vácuo, um sistema de fornecimento de gás de fluxo de prótons, uma fonte de plasma de radiofrequência, uma câmara de reação de quartzo e similares.


Recurso principal :

1. O gás na câmara de vácuo de quartzo é alterado para um estado iônico por uma fonte de energia de radiofrequência.

2. A temperatura necessária para o PECVD realizar a deposição de vapor químico é menor do que a do CVD comum.

3. A tensão do filme depositado pode ser controlada pela frequência da fonte de alimentação de RF.

4. O PECVD tem maior taxa de deposição de vapor químico, uniformidade, consistência e estabilidade do que o CVD comum.

5. Amplamente utilizado: o equipamento pode depositar SiOx, SiNx, silício amorfo, silício microcristalino, nano-silício, SiC, tipo diamante e outros filmes na superfície da folha ou amostras de formato semelhante, e pode depositar tipo p, n- tipo de dopagem Diversos filmes. O filme depositado tem boa uniformidade, compacidade, adesão e isolamento. Amplamente utilizado em ferramentas de corte, moldes de alta precisão, revestimentos duros, decoração de alta qualidade e outros campos.



Parâmetros Técnicos do PECVD 

 

 

 

 

 

 

 

Temperatura máx .:

1 2 00C

Temperatura de trabalho :

≤1 1 00C

Material do tubo :

tubo de quartzo

Tamanho do tubo :

Diâmetro : 6 0mm, comprimento da zona de aquecimento : 30 0mm 

Voltagem :

220 V/50 Hz/ 3 KW

Elemento de aquecimento :

fio de resistência

Termopar :

 Tipo K

Precisão de temperatura :

±1℃

Taxa de aquecimento :

1 0℃/min

Controle de temperatura :

Controle PID e ajuste de autoajuste, controle programável inteligente de 30 segmentos, com função de alarme de sobretemperatura e interrupção

Projeto de flange SS

Reserve orifícios de fio de 1-1,5 mm em ambos os flanges

 

 

 

 

 

 

Fluxo de prótonster

1. Quatro estações de mistura de gás controladas por fluxo de massa (MFC)

2. Equipado internamente com medidor de fluxo de massa de display digital de alta precisão para controle preciso do fluxo de gás

 

3. A faixa de fluxo de gás é 0-500SCCm com um erro de 0,02%

 

4. Medidor de pressão de vácuo de saída, sistema de mistura de gás embutido, 

 

5. Medidor de válvula de agulha de aço inoxidável, junção de ponteira dupla padrão

 

 

 

 

Fonte de alimentação de RF de plasma

Potência de saída: 5-500W ±1°C

Frequência de RF : 13,56 MHz ± 0,005%   

Potência refletida: até 100W

Correspondência: Automática

Interface de RF: 50Ω, tipo N

Resfriamento: resfriamento a ar

fonte de alimentação : AC 208-240V,50/60HZ

 

 

 

Sistema de vácuo

Conjunto de bombas moleculares de alto vácuo: Unidade de bomba de difusão

Grau de vácuo até: 1mTorr (0,1 Pa )

Conexão rápida KF25, fole de aço inoxidável, válvula manual e flange, bomba de vácuo

garantia

Período de garantia de um ano, manutenção vitalícia (excluindo consumíveis relacionados, como tubos de forno, vedações, etc.)

Certificados: CE , ISO e UL

 

 

 

Acessórios padrão do pacote:

Forno elétrico

1 conjunto

 

luvas de alta temperatura

1 par

 

gancho para cadinho

1 peça

 

Flange de aço inoxidável

1 conjunto

 

rolha de tubo

2 unidades

 

Manual do usuário

1 livro

 

Bomba de vácuo

1 conjunto

 

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