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Revestimento por pulverização catódica de íons de magnetron de alto vácuo para laboratório DC ou RF

Pessoa de contato: Gilia Ding


E-mail: gilia@inthelaboratory.com

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  • Item número.:

    LITH-650MH
  • Pagamento:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Tempo de espera:

    7 days
  • Conformidade:

    CE Certified
  • garantia:

    Two years limited standard warranty
  • Detalhes do produto

Lab DC ou RF Revestimento por pulverização catódica de íons de magnetron de alto vácuo 


envernizador  

 



Introdução

O Revestimento de Ion Magnetron de Alto Vácuo   é ideal e projetado para ciência de materiais e preparação de amostras. É amplamente utilizado pela maioria das universidades e institutos de pesquisa científica de ciência e engenharia de materiais para revestir metais, cerâmicas, semicondutores, isoladores ou outros tipos de preparação de material de membrana.

O revestidor de íon magnetron de alto vácuo fornece o ambiente de pulverização catódica mais estável e atinge as condições experimentais básicas de pulverização catódica em um período de tempo muito curto. Ele fornece DC / RF dois tipos de opções de potência de pulverização catódica que permitem a pulverização catódica de substâncias condutoras ou não condutoras na amostra e melhora o desempenho da deposição física de vapor (PVD). Também é excelente para tratamento de superfície e revestimento.  É fácil de operar e amigável também.

Bomba de vácuo e chiller estão incluídos.

 


Parâmetro

Conjunto  de bomba de vácuo 

( óleo necessário)  bomba de  vácuo rotativa  +( sem óleo)  conjunto  de bomba t urbo  m oleculan

Velocidade de  bombeamento rotativa  _

50 Hz: 16 / h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2 /h (5,2 L/s) 

Velocidade de   bombeamento molecular _

300 L/ s

vácuo  l limite

5x10 -5 Pa

Pressão  de trabalho

0,5-5 Pa

Tempo de aspiração 

>10 Min (10 -3 Pa)

 medida de vácuo

Faixa de medição da atmosfera até  1*10 Pa

controle de gás 

 Controlador de fluxo de gás 

tamanho da câmara 

φ260*200mm (altura)  m etal

fonte  do alvo magnetron  _

Tamanho alvo φ 50*3mm(Cu  ) / fonte alvo substancia  magnética fraca / materiais

método de operação 

Manual de Instruções

Peso / tamanho

100kg/610mm comprimento x 420mm largura x 490mm altura 

Fonte  de alimentação

CA 110 V 60 Hz ou CA 220 V 50 Hz

Consumo de energia 

<3000W

 Método de resfriamento

 Arrefecimento a ar ( bomba )+  arrefecimento a água  ( alvo de puttering  )

garantia

Garantia limitada de um ano com suporte vitalício ao produto 


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